Simulation multi-échelle de la croissance épitaxiale de matériaux semiconducteurs par procédé CVD

Simulation multi-échelle de la croissance épitaxiale de matériaux semiconducteurs par procédé CVD

Director(s): Jean-Noël Aqua (INSP), Benoit Sklenard (CEA), Nicolas Guitard, Fabien Deprat (STMICROELECTRONICS)
Funding:
Description :
Start: 2025
End: 2028
PhD Sudent :Vanessa Batibuka Teza
Team(s): Physico-chimie et dynamique des surfaces
Teams' Page of thesis : Physico-chimie et dynamique des surfaces
Thesis status: Thèse en cours